Waferエッジ形状測定装置を開発しました。

2021年2月、株式会社昭和電気研究所は、Wafer検査装置の一環としてWaferのエッジの形状測定装置を開発しました。

1.背景
近年、半導体の製造方法は多岐にわたり、それに伴い、ありとあらゆる検査や測定が必要となって来ました。

2.主な特長
Waferを側面から撮像し、そのシルエットの形状を測定しますが、弊社独自の光学系と画像処理アルゴリズムを採用し、高速、高精度な測定が可能となっております。

3.発売時期
2021年2月発売